टाइटेनियम फ्लैट लक्ष्य

फ्लैट पैनल डिस्प्ले का प्रकार: 1, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले डिवाइस 2, प्लाज्मा डिस्प्ले डिवाइस 3, पतली फिल्म ट्रांजिस्टर लिक्विड क्रिस्टल फ्लैट पैनल डिस्प्ले।

मुख्य प्रकार के प्लेट डिस्प्ले कोटिंग लक्ष्य हैं: क्रोमियम लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, तांबा लक्ष्य, तांबा मिश्र धातु लक्ष्य, टिन डोपेड इंडियम ऑक्साइड लक्ष्य, आदि।

दो, सजावटी कोटिंग: मोबाइल फोन, घड़ियां, चश्मा, सेनेटरी वेयर, हार्डवेयर पार्ट्स इत्यादि को संदर्भित करता है। (सजावट कोटिंग लक्ष्य में मुख्य रूप से शामिल हैं: क्रोमियम लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य, ज़िरकोनियम लक्ष्य, निकल लक्ष्य, टंगस्टन लक्ष्य, टाइटेनियम फ्लैट लक्ष्य, स्टेनलेस स्टील लक्ष्य, आदि)

तीसरा, मोल्ड कोटिंग: लक्ष्य अनुप्रयोग की मुख्य किस्में हैं: टाइटेनियम फ्लैट लक्ष्य, क्रोमियम एल्यूमीनियम लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य, आदि।

चार, ग्लास कोटिंग (मुख्य रूप से कम विकिरण कोटिंग ग्लास को संदर्भित करता है, जिसे समान ऊर्जा ग्लास के रूप में भी जाना जाता है।) ग्लास कोटिंग लक्ष्य की मुख्य किस्में हैं: चांदी लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य, निकल क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, जस्ता टिन मिश्र धातु लक्ष्य, सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य और इतने पर।

पांच, इलेक्ट्रॉनिक उपकरण कोटिंग, मुख्य रूप से फिल्म प्रतिरोध और फिल्म समाई के लिए उपयोग किया जाता है। (पतली फिल्म प्रतिरोध के लिए लक्ष्य में शामिल हैं: एनआईसीआर लक्ष्य, एनआईसीआर लक्ष्य, एनआईसीआर लक्ष्य, टैंटलम लक्ष्य, एनआईसीआर लक्ष्य, आदि)

छह, चुंबकीय मेमोरी कोटिंग: मुख्य रूप से डिस्क, चुंबकीय सिर, चुंबकीय ड्रम, टेप, आदि के लिए (चुंबकीय मेमोरी स्पटरिंग कोटिंग रिकॉर्डिंग लक्ष्य हैं: क्रोमियम बेस, कोबाल्ट बेस, कोबाल्ट आयरन बेस, निकल बेस, आदि)

सेमीकंडक्टर कोटिंग: स्पटरिंग लक्ष्य एकीकृत सर्किट तैयार करने के लिए मुख्य सामग्रियों में से एक है। उपयोग किए जाने वाले मुख्य लक्ष्य हैं: टंगस्टन लक्ष्य, टंगस्टन टाइटेनियम लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य, टैंटलम फ्लैट लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, तांबा लक्ष्य, आदि। लेकिन इसके लिए उच्च शुद्धता की आवश्यकता होती है लक्ष्य सामग्री, आम तौर पर 4N या 5N से अधिक।)

आठ, सौर सेल कोटिंग: लक्ष्य में मुख्य रूप से शामिल हैं: जिंक ऑक्साइड एल्यूमीनियम लक्ष्य (AZO), जिंक ऑक्साइड ZnO लक्ष्य, जस्ता एल्यूमीनियम लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, सीडी सीडीएस लक्ष्य और इसी तरह।

लक्ष्य सामग्री वर्गीकरण:

1. धातु लक्ष्य: जैसे टंगस्टन लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, टैंटलम लक्ष्य, नाइओबियम लक्ष्य, ज़िरकोनियम लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य, निकल लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, तांबा लक्ष्य, लौह लक्ष्य, चांदी लक्ष्य, आदि।

2. मिश्र धातु लक्ष्य: जैसे टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्य, क्रोमियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्य, निकल क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, टंगस्टन मोलिब्डेनम मिश्र धातु लक्ष्य, टैंटलम टंगस्टन मिश्र धातु लक्ष्य, मोलिब्डेनम नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य, आदि।

तीन, सिरेमिक लक्ष्य: जैसे जिंक ऑक्साइड एल्यूमीनियम लक्ष्य, जिंक ऑक्साइड लक्ष्य, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य, सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य, कैडमियम सल्फाइड लक्ष्य, आदि।

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